集成电路制造基础工艺与三极管制造虚拟仿真软件
时间：2022-12-06 访问量：466
实验编号：U19E00100
关键词：微电子，三极管，制造，氧化，扩散，光刻，刻蚀，电子束蒸发
（一）内容介绍
本实验包含7个模块。模块1，清洗；模块2，氧化；模块3，扩散；模块4，光刻；模块5，刻蚀；模块6，电子束蒸发；模块7，典型器件制作-三极管制造
模块1，清洗
模块2，氧化
模块3，扩散
模块4，光刻
模块5，刻蚀
模块6，电子束蒸发
模块7，典型器件制作-三极管制造
（二）实验特色和亮点
本实验教学项目涉及微电子制造技术实验课程中的“基础工艺”、“集成二极管制造”“集成三极管制造”、“铝栅CMOS管制造”等主要教学内容，具有综合性、系统性、应用性强等特点，旨在培养学生对微电子制造基础工艺流程、参数优化、分析表征、器件制作与测试等方面知识的掌握和综合分析能力，加深理解工艺条件对器件制造的影响。本实验项目采用3D建模，依据真实实验场景，使用Maya和3DMax软件进行整体实验室（环境、设备）建模。数值仿真计算结果与实际实验结果误差不超过1%。
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